不同厚度TiN和TiAlN涂层残留应力分析

作者：王海洋; 曹传亮; 张祥林; 肖祥芷

来源：模具工业, 2011, (11): 64-69.

DOI：10.16787/j.cnki.1001-2168.dmi.2011.11.019

• TiN
• TiAlN
• XRD
• 残留应力
• 涂层厚度
• 精冲模 TiN film
• TiAlN film
• residual stress
• thickness of coating
• fine blanking die

TiN和TiAlN涂层常应用于精冲模,采用XRD技术分析了不同厚度TiN和TiAlN涂层的相变化,并采用Sin2ψ法测量了TiN涂层和基体以及TiAlN基体的残留应力,应用显微硬度计测量了涂层的显微硬度。结果表明:TiN涂层(111)和(222)晶面存在明显择优取向,涂层残留应力分布在-2 347～-1 920MPa,基体残留应力分布在-154.9～-69.21 MPa,均随厚度增加而减小;TiAlN涂层主要相成分为Ti3Al3N2,且(107)晶面存在择优取向,基体残留应力分布在-123.7～469.5 MPa,主要呈拉应力状态,且随厚度增加而增大,对模具寿命有较大影响;TiN和TiAlN涂...

• 单位
  华中科技大学; 材料成形与模具技术国家重点实验室