射频磁控溅射制备硼碳氮薄膜

作者：王玉新; 冯克成; 张先徽; 王兴权; 赵永年

来源：功能材料, 2007, (06): 889-890+894.

• 射频磁控溅射
• 硼碳氮薄膜
• 红外吸收光谱 RF magnetron sputtering
• BCN thin films
• infrared absorption spectrum

采用射频磁控溅射技术,用六角氮化硼和石墨为溅射靶,以氩气(Ar)和氮气(N2)为工作气体,在Si(100)衬底上制备出硼碳氮薄膜。通过X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对样品结构、组分进行了分析。结果表明,样品的组成原子之间实现了原子级化合,且薄膜为乱层石墨结构。样品中B、C、N的原子比近似为1∶1∶1。

• 单位
  长春理工大学; 吉林大学; 超硬材料国家重点实验室