磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析

作者：严少平; 蒋百灵; 苏阳; 张永宏

来源：西安理工大学学报, 2008, (01): 8-12.

DOI：10.19322/j.cnki.issn.1006-4710.2008.01.002

• 非平衡磁控溅射
• 类石墨碳镀层
• 微结构
• Raman光谱
• X射线光电子能谱 unbalanced magnetron sputtering deposition
• graphite-like carbon coatings
• microst-ructure
• Raman spectra
• X-ray photoelectron spectroscopy

利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明:不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似,类石墨碳镀层是以sp2键结构为主,且含有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层,sp3键含量在12~15%范围;根据高斯解谱计算,镀层中碳团簇线度为1.2 nm以下,并随铬含量增高而减小;镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成,并随铬含量增高,逐步有碳铬化合物形成。

• 单位
  安徽理工大学; 西安理工大学; 材料科学与工程学院