磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展

作者：郑华均; 黄建国

来源：浙江化工, 2005, (01): 35-38.

• 碳化钨
• 磁控溅射法
• 催化剂

综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态。文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面。

• 单位
  浙江工业大学