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摘要
低温面源黑体作为红外谱段的标准辐射源,广泛应用于红外遥感器、热像仪的标定中。随着红外技术的发展,其应用越来越广泛并已经开始向低温领域发展。温度均匀性是面源黑体的重要指标,介绍一种可以提高面源黑体温度均匀性的结构,实验结果表明这种结构可使面源黑体温度均匀性优于0.2 K。
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单位中国科学院研究生院; 中国科学院理化技术研究所
低温面源黑体作为红外谱段的标准辐射源,广泛应用于红外遥感器、热像仪的标定中。随着红外技术的发展,其应用越来越广泛并已经开始向低温领域发展。温度均匀性是面源黑体的重要指标,介绍一种可以提高面源黑体温度均匀性的结构,实验结果表明这种结构可使面源黑体温度均匀性优于0.2 K。
