掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究

作者：李喆; 张溪文; 韩高荣

来源：真空科学与技术学报, 2008, (04): 318-324.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2008.04.009

• 介质阻挡放电化学气相沉积
• 掺氮TiO2薄膜
• 光催化性
• 亲水性 DBD-CVD
• N doped titanium dioxide film
• Photocatalysis
• Hydrophilicity

采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP)作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。且NH3掺氮效果整体好于N2O。

• 单位
  硅材料国家重点实验室