低泡沫无水印金属表面清洗剂配方的优化

作者：郑岩

来源：山西化工, 2023, 43(06): 23-25.

DOI：10.16525/j.cnki.cn14-1109/tq.2023.06.009

• 低泡沫
• 水印
• 铺展
• 润湿
• 金属清洗剂

为避免金属清洗过程中产生泡沫以及在表面残留水印的困扰，选用具有超级润湿与铺展作用的低泡沫表面活性剂脂肪酸甲酯乙氧基化物FMEE作为清洗剂的主体成分，并将柠檬酸钠与无磷螯合剂乙二胺二邻苯基乙酸钠按照质量比1:1复配替代磷酸盐三聚磷酸钠作为助洗剂。最终确定了低泡沫无水印金属清洗剂的配方为：喜赫EO/PO无规嵌段FMEE 10%，柠檬酸钠5%，乙二胺二邻苯基乙酸钠EDDHA-Na 5%，耦合剂M400 5%，杀菌剂0.1%，纯水74.9%。