半导体刻蚀设备中真空系统的设计优化

作者：陈妙娟

来源：机电信息, 2016, (21): 128-130.

DOI：10.19514/j.cnki.cn32-1628/tm.2016.21.070

• 刻蚀设备
• 真空系统
• 真空泵
• 优化

针对半导体刻蚀设备中的真空系统部分进行探究,具体介绍在真空系统设计过程中泵/阀门的选取、慢抽过程的应用、防冷凝方案等,并对抽气性能优化进行了一些研究,以实现真空系统对半导体刻蚀设备提供最优化的压力控制。