基体偏压对CrTiAlN镀层摩擦磨损性能的影响

作者：严少平; 孙雅琴; 段冰; 张桂梅; 蒋百灵

来源：合肥工业大学学报(自然科学版), 2007, (08): 966-970.

• 非平衡磁控溅射离子镀技术
• 基体偏压
• 显微硬度
• 摩擦磨损性能 unbalanced magnetron sputter ion plating technique
• substrate bias voltage
• micro-hardness
• friction and wear properties

应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能。结果表明,随偏压的增大,镀层的厚度、硬度、膜基结合强度和耐磨性能表现出先升后降、摩擦系数较低、具有良好的韧性;在-75 V左右偏压下沉积的镀层具有最佳的综合性能。通过XRD、SEM的分析表明,由CrN、TiN、AlN、Cr和Ti2N等微晶组成的复合镀层,晶粒细小,属于纳米级颗粒,从而使镀层具有良好的摩擦学性能。

• 单位
  安徽理工大学; 西安理工大学; 材料科学与工程学院