退火时间对Cu-Al-O薄膜性能影响的研究

作者：高倩倩; 刘正堂; 冯丽萍; 田浩

来源：机械科学与技术, 2013, (01): 51-53.

DOI：10.13433/j.cnki.1003-8728.2013.01.002

• Cu-Al-O薄膜
• 退火时间
• 透过率 Cu-Al-O thin films
• annealing time
• transmittance

通过制备Cu-Al-O薄膜并对其进行退火处理,研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外-可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究结果表明:随着退火时间的增加,薄膜开始晶化,5.0 h时薄膜中出现裂纹,同时出现AlCu合金相;紫外-可见透过率随退火时间的增加而降低;中红外透过率随退火时间的增加先增加后降低;Cu-Al-O薄膜的直接带隙随退火时间的增加而降低。

• 单位
  西北工业大学; 材料学院; 凝固技术国家重点实验室