TiO_2薄膜发展现状及APCVD制备掺氮TiO_2性能研究

作者：王薇薇; 郭玉; 张溪文; 韩高荣

来源：材料导报, 2006, S1: 57-61+74.

• 光催化性
• 掺氮TiO2薄膜
• APCVD photocatalysis
• N-doping TiO_2 films
• APCVD

概述了TiO2的国内外发展现状,从原理、改性等方面详细介绍了TiO2的光催化特性,并对TiO2的制备方法进行了总结概括。用APCVD法所做的气体流量系列掺氮TiO2样品进行测试分析发现,氮已经掺入TiO2中,氮的掺杂改善了薄膜表面的亲水性能。

• 单位
  硅材料国家重点实验室; 浙江大学