介孔二氧化硅对映选择性吸附的手性印迹调控

作者：宋文尧; 周张浪; 杨鑫莉; 陈岚^*; 葛广路^*

来源：高等学校化学学报, 2018, 42(10): 3144-3150.

• 手性介孔二氧化硅
• 手性超分子模板
• 对映选择性吸附
• 手性印迹
• 共结构导向剂

使用手性阴离子表面活性剂作为超分子模板,采用共结构导向法制备手性介孔二氧化硅(CMS),并运用圆二色谱(CD)对CMS对映选择性吸附结果进行检测,比较了有无共结构导向剂(CSDA)在介孔表面的排列对吸附选择性的影响.结果表明,当使用构型相反的手性超分子模板剂对原合成CMS材料的介孔内表面进行修饰时,可诱导结构共导向剂N-三甲氧基硅基丙基-N, N, N-三甲基氯化铵(TMAPS)发生手性相反的排列进而导致完全相反的对映选择性吸附.实验证明此方法合成的CMS的对映选择性吸附及分离能力主要是由修饰在介孔表面的TMAPS螺旋排列形成的手性印迹所导致.此手性超分子模板诱导TMAPS手性印迹的策略具有一定的普适性,可对原合成介孔材料对映选择性吸附进行原位调控,对于拓展其在立体选择性识别、不对称催化及药物输送等方面的应用具有一定的指导意义.

• 单位
  中国科学院大学; 国家纳米科学中心