一种AlCr+α-Al-2O-3溅射靶材及制备与应用

作者：邱万奇; 杨宇; 程奕天; 焦东玲; 钟喜春; 刘仲武

来源：2019-04-03, 中国, CN201910264818.7.

本发明属于金属及其氧化物涂层技术领域,公开了一种AlCr+α-Al-2O-3溅射靶材及制备与应用。所述溅射靶材由10～20wt％的α-Al-2O-3,36.2～40.7wt％的Cr和43.8～49.3wt％的Al组成。将Al粉、Cr粉与α-Al-2O-3粉经混粉、加压烧结,得到致密AlCr+α-Al-2O-3溅射靶材。所得AlCr+α-Al-2O-3溅射靶材通过射频磁控溅射在基体温度520～600℃和10％～15％O-2分压下沉积可沉积出单相纳米α-(Al,Cr)-2O-3薄膜,所沉积的薄膜硬度高,韧性好。

• 单位
  华南理工大学