ICPCVD制备硅薄膜结构的椭偏光谱研究

作者：王晓强; 贺德衍; 李明亚; 甄聪棉; 韩秀梅

来源：稀有金属材料与工程, 2007, S1: 931-934.

• ICP-CVD
• Si薄膜
• 低温生长
• 椭偏光谱法

利用单圈内置式ICP-CVD方法在室温下制备了Si薄膜。在拉曼光谱、原子力显微镜(AFM)对样品结构分析的基础上,采用对样品结构无损伤的椭圆偏振光谱(SE)法对样品进行了测量,结合有效介质近似(EMA)模型,对样品的微结构进行了计算拟合。拉曼光谱及AFM分析表明:样品为具有纳米晶相的Si薄膜;分光椭圆偏振法结合EMA模型对样品微结构的拟合分析得出了同样的结论,说明即使在室温下用ICP-CVD也获得了具有纳米晶相的Si薄膜,薄膜微结构与源气体SiH4浓度有密切关系。说明分光椭圆偏振法是研究薄膜材料的一种有力手段。

• 单位
  东北大学; 河北师范大学; 兰州大学