原子层沉积中循环周期和反应物注入量对薄膜性质的影响

作者:宁洪龙; 苏国平; 姜雅思; 刘丁荣; 吴振宇; 姚日晖
来源:第七届粤港澳真空科技创新发展论坛暨2023年广东省真空学会学术年会, 中国广东中山, 2023-11-23.
DOI:10.26914/c.cnkihy.2023.074430

摘要

通过改变超循环工艺中的循环周期,制备了HfO2、Al2O3纳米叠层栅介质薄膜,探究了循环周期对HfO2、Al2O3纳米叠层栅介质电学性能的影响。此外,进一步探究了臭氧注入时间(tO)的变化对IZO TFT器件性能的影响。

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