对基于磁控溅射方法沉积的HfO_2薄膜的紫外光学特性及薄膜结构的研究（英文）

作者：孙存志; 洪荣墩^*; 陈夏平; 蔡加法; 吴正云

来源：Chinese Journal of Chemical Physics, 2018, 31(06): 813-817.

• 薄膜
• 光学材料
• 溅射
• X射线衍射

本文基于磁控溅射方法,功率从160 W增加到240 W,在石英衬底上沉积氧化铪薄膜(HfO2),并对沉积后的薄膜进行退火处理.利用X射线衍射谱、X射线光电子能谱、紫外-可见-近红外透射谱和椭圆偏振仪对Hf02薄膜进行研究,对比了退火前后Hf02薄膜的光学特性及薄膜结构的变化.实验结果显示,HfO2薄膜对波长大于200 nm的入射光具有很低的吸收系数.优化退火温度和时间,可以将沉积后的Hf02薄膜从非晶态转化成多晶态.退火有助于结晶生成和内应力的增加,同时退火可以优化薄膜的化学计量比,提升薄膜的光学密度及折射率.对功率在220 W左右沉积的薄膜进行退火,获得的Hf02薄膜具有较高并且稳定的光学折射率(>2)和紫外光透射率,可在紫外波段减反膜系统中得到应用.

• 单位
  厦门大学九江研究院; 厦门大学