Al含量对TiAlSiN薄膜常温及高温微观形貌的影响

作者：王昕; 徐建华; 马胜利; 徐可为

来源：煤矿机械, 2010, (07): 54-56.

DOI：10.13436/j.mkjx.2010.07.079

• 硬质薄膜
• 磁控溅射
• 表面形貌 hard films
• magnetron sputtering
• morphology

采用弧离子增强磁控溅射(AEMS)方法制备了TiAlSiN多元硬质薄膜,研究了不同Al含量对薄膜常温及高温微观形貌的影响。结果表明,此类薄膜均具有致密的显微组织,对应于特定Al含量,薄膜表面形貌最优,缺陷最少;薄膜高温热稳定性和抗氧化能力优异,800℃未观察到明显的表面显微组织变化。

• 单位
  金属材料强度国家重点实验室; 西安交通大学