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摘要
为了对比研究磁控溅射和多弧离子镀两种工艺制备的Cr涂层Zr-4合金微观结构和抗高温氧化性能，分别采用直流磁控溅射和多弧离子镀制备了Cr涂层Zr-4合金样品，在空气气氛中开展高温氧化试验研究。结果表明，磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金样品表面光滑，Cr涂层沿着(211)晶面择优生长，而多弧离子镀制备的Cr涂层Zr-4合金样品表面存在大量的滴液，Cr涂层沿着(110)晶面择优生长。高温氧化试验结果显示，磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金样品的氧化质量增加约为多弧离子镀的一半，氧化后的微观结构显示磁控溅射制备的样品还有约4μm厚的残留Cr涂层，且O原子仅仅大量扩散到距表面约8μm处，而多弧离子镀制备的样品表面Cr涂层全部被氧化，且O原子大量扩散到距样品表面约1 mm深处的Zr-4合金基体中。因此，磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金具有更好的抗高温氧化性能。
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