离子源辅助电弧离子镀制备MoSx自润滑涂层

作者：李助军; 刘怡飞; 田灿鑫; 杨兵; 付德君; 苏峰华

来源：粉末冶金材料科学与工程, 2018, 23(02): 186-191.

DOI：10.3969/j.issn.1673-0224.2018.02.010

• 自润滑涂层
• 中空阴极弧光离子源
• 电弧离子镀
• MoSx涂层
• 力学性能

以Ar为输送气体,H2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H2S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累实验数据。结果表明,H2S流量对MoSx自润滑涂层的晶体结构、硬度及摩擦因数具有明显影响。随H2S流量升高,MoSx自润滑涂层中Mo晶粒尺寸逐渐减小,没有明显的硫化物结晶相,MoSx涂层硬度逐渐减小,摩擦因数也逐渐减小,且均小于0.35(对磨材料硬质合金)。H2S可以作为S源通过中空阴极离子源离化作用为MoSx自润滑涂层的制备提供S元素;电弧离子镀制备出的MoSx自润滑涂层为金属Mo纳米晶粒与非晶MoS、MoS2组成的纳米复合结构。

• 单位
  武汉大学; 广州铁路职业技术学院; 华南理工大学