摘要

为进一步提升电解铜箔性能,以直流电沉积法制备6μm电解铜箔的过程作为研究背景,首先确定电解液组成成分的最优参数,而后在已有的实验基础上,通过正交实验法,确定了HVP、DPS和HP添加剂的最优添加量分别为80 mg/L、10 mg/L和8 mg/L,该研究成果可为后续的铜箔加工工艺参数的优化调整提供一定的参考借鉴。

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