溅射功率对铒薄膜微观结构的影响

作者：张庆芳; 易勇^*; 罗江山

来源：真空, 2020, 57(03): 17-20.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.04

• 磁控溅射
• Er薄膜
• 微观结构
• 择优取向

采用直流磁控溅射方法制备出铒(Er)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了溅射功率对Er薄膜微观结构的影响。结果表明:在溅射功率20W～60W的范围内,Er薄膜均为hcp结构,且呈现明显的(110)晶面择优取向的微观织构。Er薄膜生长呈现柱状晶模式,随着溅射功率的增加,柱状晶组织相应长大,薄膜结构更加致密,表面更为平整,其平均晶粒尺寸7.7nm～9.6nm,表面粗糙度最低2.1nm。磁控溅射方法制备的Er薄膜与电子束蒸发等方法制备的Er薄膜相比具有不同的微观结构特征。

• 单位
  中国工程物理研究院激光聚变研究中心; 西南科技大学