Sb掺杂Si3N4基Si量子点薄膜的制备与结构

作者：莫镜辉; 袁俊宝; 杨培志; 张志恒; 王云祥; 刘黎明

来源：光子学报, 2018, 47(02): 22-27.

• 射频磁控溅射
• 硅量子点
• 氮化硅薄膜
• 锑掺杂

基于多靶射频磁控溅射技术,结合快速光热退火后处理制备了Sb掺杂Si3N4基Si量子点(SiQDs)薄膜。采用透射电镜、掠入射X射线衍射、拉曼光谱和光致发光光谱等手段对薄膜的微结构和发光特性进行了研究,分析了Sb掺杂对Si-QDs薄膜的微结构和发光特性的影响规律.结果表明,Sb掺杂表现出明显的诱导晶化作用.掺杂的Sb有助于Si原子在Si3N4基质中的扩散并形成Si-QDs.随着Sb掺杂量的增加,Si-QDs的尺寸逐渐增大,薄膜的结晶率Xc有效提高,其PL谱峰随之增强,谱峰的半高峰宽逐渐变窄;由于Si-QDs尺寸的增加还导致PL发光谱峰位产生红移.

• 单位
  云南师范大学; 电子科技大学中山学院; 云南机电职业技术学院; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室