摘要

目的:利用数字化扫描技术和逆向工程软件研究上颌无牙颌的黏膜变化。方法:纳入20例上颌无牙颌患者。使用有孔托盘和藻酸盐材料获取初印模,用模型扫描仪(D810,3shape)对所有印模进行扫描并转化为数字化模型。对模型分别使用“最佳拟合法”和根据分区自行定义的一种新的匹配方法(区域拟合法)配准对齐,计算其偏差结果。采用单因素方差分析(P<0.05)进行统计分析。结果:区域拟合法和最佳拟合法在各区域偏差大小趋势相同,偏差最小的区域分布在牙槽嵴区,偏差最大的区域为后堤区。区域拟合中牙槽嵴偏差(0.129±0.065) mm,后堤区偏差为(0.366±0.154) mm;最佳拟合中牙槽嵴偏差为(0.158±0.052) mm,后堤区偏差为(0.267±0.159) mm。两种方法比较,P<0.05。结论:两种配准方法均证明无牙颌功能性印模具有显著的黏膜下沉变化,不同区域各不相同,区域拟合法提供了口腔模型配准的新思路。