对晶体硅(c-Si)太阳能电池而言,氧化铝(AlOx)是一种广泛使用的钝化材料,因为它具有优异的沉积保形性和良好的钝化质量.为了确保AlOx发挥其良好的钝化效果,在沉积后退火并氢化处理是必不可少的.通过在AlOx薄膜上沉积氢化氮化硅(SiNx:H)来实现氢化,利用开尔文探针力显微镜研究了在不同热处理和氢化作用下,AlOx/SiNx:H双层薄膜功函数的变化,并基于沉积薄膜所含氢与固定电荷展开了讨论.发现钝化质量和功函数之间有相关性,影响因素包括薄膜厚度、氢化与热处理顺序.
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