硫酸盐体系三价铬沉积机理及镀层表征

作者：闫慧; 黄帅帅; 杨防祖; 田中群; 周绍民

来源：电化学(中英文), 2018, 24(01): 20-27.

DOI：10.13208/j.electrochem.170441

• 三价铬
• 硫酸盐
• 厚铬
• 电沉积
• 机理
• 镀层表征

在新研发的硫酸盐三价铬镀厚铬的镀液体系中,运用线性扫描伏安法(LSV)和循环伏安法(CV)对三价铬在铜电极表面的电沉积过程进行研究,并运用X射线荧光测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计和Tafel曲线表征铬镀层厚度、形貌、组成、结构、显微硬度及在3.5wt%NaCl溶液中的耐蚀性.结果表明,在该体系中三价铬的沉积过程分两步进行(Cr3++e→Cr2+,Cr2++2e→Cr),第一步得到1个电子,受电化学过程和扩散过程共同控制;第二步得到2个电子,为扩散控制下的不可逆过程.该镀层为瘤状纳米晶结构,镀层中含有少量的铁元素(1.10wt%),显微硬度达到789.2 Hv,镀层在3.5wt%NaCl溶液中的腐蚀电位Ecorr为-0.29 V,腐蚀电流密度jcorr为9.26×10-5A·dm-2.

• 单位
  固体表面物理化学国家重点实验室; 厦门大学; 化学化工学院