<正>本文提出一种晶圆级微纳米栅格计量标准样片研制方法,并依托集成电路生产线开展周期为500nm、1000nm和2000nm的晶圆级一维线距栅格、二维网格栅格和二维XY栅格图案的批量化制备,同时进一步利用5个可溯源至SI单位的扫描电子显微镜对标准样片进行了比对测量。