真空镀膜稳定性与均匀性研究

作者：刘海勇; 刘丽娜; 高鹏

来源：中国新技术新产品, 2015, (07): 59-60.

DOI：10.13612/j.cnki.cntp.2015.07.052

• 真空镀膜
• 蒸发镀
• PECVD
• 稳定性
• 均匀性

真空镀膜的质量受多种因素的影响,镀膜工艺参数等诸多要素直接影响到真空镀膜的稳定性与均匀性。本文以真空蒸发镀膜和PECVD法为例,详细分析了影响镀膜稳定性与均匀性的工艺问题,希望对于实际真空镀膜工作质量的提供有所启发和帮助。

• 单位
  核工业理化工程研究院