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摘要
磁流变抛光能够高效去除光学元件表面的低频误差，但同时也引入了中频误差，而中频误差的存在对光学系统的性能造成了严重影响，必须对其进行有效控制。对常用的光栅轨迹和螺旋轨迹进行了研究，发现规则的抛光轨迹会导致卷积过程与实际去除过程不一致，会引入对称的迭代误差，而迭代误差是中频误差恶化的重要因素。基于对光栅轨迹和螺旋轨迹的研究，提出了一种变距螺旋矩阵轨迹降低光学元件中频误差的轨迹优化方法。该轨迹通过打乱螺旋矩阵轨迹的螺距保留了光栅轨迹和螺旋轨迹简单易行的优点，同时也改变了轨迹线间的随机性。通过对加工前后的面形进行功率谱分析，验证了该轨迹能够有效降低其表面的中频误差，较光栅线和螺旋线中频收敛效率综合提高了26.59%。
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单位华中光电技术研究所; 遵义师范学院; 武汉光电国家实验室; 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
