B含量对(AlSiTiCrNbVBx)N薄膜微观结构与性能影响

作者：张军鹏; 徐大鹏^*; 苏霖深; 房晓彤; 邵文婷

来源：西安工业大学学报, 2021, 41(05): 507-514.

DOI：10.16185/j.jxatu.edu.cn.2021.05.001

• 磁控溅射
• 硬质薄膜
• 靶材镶嵌设计
• 微观结构
• 力学性能

为了研究B含量对(AlSiTiCrNbVBx)N薄膜微观结构和力学性能的影响,文中采用放电等离子烧结技术制备了B靶,并与AlSiTiCrNbV合金靶材进行镶嵌设计,向真空腔室通入N2进行反应磁控溅射,制备了(AlSiTiCrNbVBx)N薄膜,分析了薄膜物相结构、元素含量、形貌、成分以及硬度。试验结果表明:随着B元素含量的增加,薄膜由面心立方结构(FCC)转变为非晶结构;当原子数分数x(B)=18.20%时,硬度达62.32 GPa,其硬度接近人造金刚石。

• 单位
  材料与化工学院; 西安工业大学