集成电路布图设计作为一种新兴的知识产权客体，其保护模式区别于著作权和专利权，但又存在紧密联系，探索出了一条“工业版权”的保护路径。针对布图设计的现有保护机制尚不完善，司法实务中也存在不同裁判观点的现状，在理清布图设计的保护客体、获权要件、保护范围、侵权判断规则和非以“公开换保护”本质的基础上，完善布图设计专有权的确权机制、引入刑事保护措施等强化法律保护，与此同时以利益平衡原则为判断标准，明确反向工程抗辩成立要素、限缩商业使用权的权能范围等权利限制机制，以探索布图设计专有权更优保护路径。
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