基于分区扩展修正的非均匀性校正方法

作者：张红洛; 王明昌

来源：数码世界, 2019, (01): 93.

• 非均匀性校正
• 红外焦平面阵列
• 分段两点
• 分区扩展

非均匀性校正是红外焦平面阵列应用中的关键技术之一。本文提出了分段两点校正与分区扩展单点修正相结合的校正方法,根据探测对象的温度范围合理划分校正分区并计算各分区的非均匀性校正系数,具有算法简单、易于工程实现的特点。

• 单位
  中国空空导弹研究院