温度对CVD-TaC涂层组成、形貌与结构的影响

作者：李国栋; 熊翔; 黄伯云

来源：中国有色金属学报, 2005, (04): 565-571.

DOI：10.19476/j.ysxb.1004.0609.2005.04.012

• TaC涂层
• C2TaC复合涂层
• 化学气相沉积
• 相组成
• 涂层形貌
• 低应力涂层 TaC coating
• C-TaC composite coating
• chemical vapor deposition(CVD)
• phase composition
• coating morphology
• low stress coating

利用TaCl52C3H62H22Ar反应体系,用化学气相沉积法(CVD)成功地在C/C复合材料表面沉积TaC涂层及C2TaC复合涂层。研究了温度对TaC涂层的相组成和表面形貌的影响以及CVD2TaC涂层的沉积机理。结果表明:在1373～1673K温度范围内能够在C/C复合材料表面制备碳化钽涂层,它由TaC和游离碳组成。提高沉积温度和H2/C3H6的流量比,TaC涂层中游离碳的含量减少;随着沉积温度的升高,TaC涂层的颗粒尺寸增大,均匀程度下降;在1573K时颗粒间出现明显的烧结界面,结构致密无裂纹。制备出成分波动的C2TaC复合涂层,该涂层与基体间具有良好的机械相容性。分析了低应力、无裂纹Ta...

• 单位
  粉末冶金国家重点实验室; 襄樊学院; 中南大学