摘要
采用扩散共渗方法在TiAl合金表面制备了Si-Co-Y渗层,分析了渗层的组织结构、形成机制及其在950℃时的抗氧化性能。结果表明,所制备的Si-Co-Y渗层组织致密,呈多层结构:主要由TiSi2表层,TiSi2+Ti5Si4+Ti5Si3混合组成的外层,Ti5Si3中间层和TiAl2内层组成;渗层生长过程由Si的向内扩散控制,且遵循先沉积Si后沉积Co、Y的有序过程。氧化试验结果表明,Si-Co-Y渗层具有良好的高温抗氧化性能,在950℃氧化100h后表面形成了由SiO2、TiO2和Al2O3组成的保护性氧化膜;该氧化膜的生长遵循抛物线规律,氧化增重的抛物线速率常数约为6.3×10-2mg2·(cm4·h1/2)-1,较基体合金低约1个数量级。
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单位北京航空航天大学; 四川化工职业技术学院; 四川轻化工大学