科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
采用扩散共渗方法在TiAl合金表面制备了Si-Co-Y渗层，分析了渗层的组织结构、形成机制及其在950℃时的抗氧化性能。结果表明,所制备的Si-Co-Y渗层组织致密，呈多层结构：主要由TiSi2表层，TiSi2+Ti5Si4+Ti5Si3混合组成的外层，Ti5Si3中间层和TiAl2内层组成；渗层生长过程由Si的向内扩散控制，且遵循先沉积Si后沉积Co、Y的有序过程。氧化试验结果表明，Si-Co-Y渗层具有良好的高温抗氧化性能，在950℃氧化100h后表面形成了由SiO2、TiO2和Al2O3组成的保护性氧化膜；该氧化膜的生长遵循抛物线规律，氧化增重的抛物线速率常数约为6.3×10-2mg2·(cm4·h1/2)-1，较基体合金低约1个数量级。
-
单位北京航空航天大学; 四川化工职业技术学院; 四川轻化工大学
