PLD法薄膜沉积条件对ZnO薄膜特性的影响

作者：郭茂田; 田臻锋; 陈兴科

来源：激光杂志, 2006, (03): 57-58.

• ZnO薄膜
• PLD
• 衬底温度 ZnO film
• PLD
• substrate temperatures

介绍了基于PLD方法制备的ZnO薄膜,在衬底温度(200-400℃)改变的情况下,分别对薄膜的表面结构和光致发光的情况做了研究,发现其相关特性并得出了制备薄膜的最佳条件。

• 单位
  中国科学院安徽光学精密机械研究所; 中国科学院，安徽光学精密机械研究所