SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征

作者：刘喜锋; 张鹏博; 方小红; 陈小源

来源：半导体光电, 2019, 40(04): 513-522.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2019.04.013

• 石墨烯
• 化学气相沉积
• SiO2/Si
• 铜

以铜为催化剂,采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和甲烷为碳源的化学气相沉积两步法,在SiO2/Si衬底上制备了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱分析了薄膜的层数和质量,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了薄膜的尺寸与表面形貌。实验探究了生长时间、氢气流量和气体总压强等工艺参数对石墨烯薄膜层数和质量的影响,最终在优化条件下制得10μm级质量较高的多层石墨烯薄膜。

• 单位
  中国科学院上海高等研究院; 中国科学院大学; 上海科技大学