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摘要
研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU—8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利于液体喷射。为了实现陡直的图形结构,深入研究了衬底和紫外曝光焦平面的相对位置(散焦量),对于SU—8光刻胶图形边界倾角的影响机制。研究发现,当散焦量从-0.6μm变化到0.2μm时,SU—8光刻胶的图形边界的倾角从82.3°上升到90°再下降到88.4°,采用最优的90°图形倾角SU—8光刻条件应用于微小网孔的制作中,可以得到微网孔最优化倾角为89°,有利于液体从网孔中出射。应用SU—8光刻工艺,最终可实现最小孔径约3μm,总厚度约20μm,分布周期为300 dpi,均匀分布,一致性好的微小网孔片样品。该研究将有利于超小液滴雾化网孔片在电子烟及医学领域的应用。
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单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所; 上海新型烟草制品研究院
