针对有机硅行业甲基硅氧烷产品含水及机械杂质的问题，介绍了一种甲基硅氧烷脱水除杂工艺。该工艺主要利用静力平衡学及虹吸原理，将甲基硅氧烷产品经除水装置及过滤装置，实现去除甲基硅氧烷产品中的水及机械杂质的目的。除水装置采用旋流分离的方法，提高甲基硅氧烷与水的分离效果，甲基硅氧烷漂浮于除水装置上层，水及大部分粒径>5μm机械杂质经除水装置底部排出，除杂之后利用高纯氮气将除杂装置内甲基硅氧烷产品压送，经微孔过滤器过滤掉<1μm的机械杂质后输送回甲基硅氧烷产品储罐，从而达到除杂的目的。
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