凸面光栅的设计与制作研究进展

作者：王丁陆; 张大伟; 徐邦联^*; 黄元申; 李柏承; 沈宇航

来源：激光与光电子学进展, 2021, 58(11): 26-37.

• 光学设计
• 凸面光栅
• 全息离子束刻蚀法
• Offner成像光谱仪

凸面光栅是Offner结构成像光谱仪的核心分光元件,制备出高衍射效率、高分辨率的凸面光栅是提高光谱仪成像质量,实现遥感探测的关键。介绍了目前凸面光栅的研究现状,讨论了设计与制作凸面闪耀光栅的主要方法。凸面光栅的设计方法采用严格耦合波理论对光栅进行衍射效率分析,制作方法主要包括:电子束直写法、X射线光刻法、机械刻划法以及全息离子束刻蚀法。鉴于全息离子束刻蚀法具有成本低、槽型可控、无鬼线等优点,详细介绍了利用该方法制备凸面光栅的工艺及相关研究报道。在接下来的工作中将不断优化和提高全息曝光光强分布的均匀性,改进摆动刻蚀装置旋转轴的可调性,优化离子束刻蚀工艺参数,以期制作出实用化的凸面闪耀光栅。

• 单位
  上海光学仪器研究所