Zr55Cu30Al10Ni5非晶薄膜的制备与性能研究

作者:辛先峰; 刘林根*; 林国强; 董闯*; 丁万昱; 张爽; 王棋震; 李军; 万鹏
来源:真空, 2022, 59(05): 1-6.
DOI:10.13385/j.cnki.vacuum.2022.05.01

摘要

非晶薄膜由于其优异的性能而被广泛研究,如不粘性和耐腐蚀性,这对于大块金属玻璃形成能力强的Zr55Cu30Al10Ni5成分来说尤为突出。本文以Zr55Cu30Al10Ni5块状金属玻璃为靶材,通过直流磁控溅射制备非晶合金薄膜,研究了不同溅射功率对薄膜力学性能、不粘性、耐蚀性和表面粗糙度的影响。结果表明,在磁控溅射功率为75~165W的范围内,可以获得高质量的非晶态薄膜,其硬度达到~9.2GPa,弹性模量~164GPa,硬弹性比~0.055,自腐蚀电流密度~1.16μA·cm-2,自腐蚀电位-241.27m V,最大润湿角104°。这些性能数据与文献报道的接近,硬度甚至更高,证实该薄膜具有用于不粘和抗腐蚀方面的良好潜力。

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