一种具有大斯托克斯位移和高光学稳定性的线粒体靶向近红外染料及其细胞成像应用（英文）

作者：周红梅; 唐永和; 卢辉旭; 张倩; 林伟英^*

来源：有机化学, 2022, 42(06): 1687-1693.

• 大斯托克斯位移
• 荧光成像
• 线粒体
• 荧光染料

线粒体功能障碍与阿尔茨海默病(AD)、高血压、糖尿病和神经退化性疾病等严重疾病密切相关,开发可高度靶向线粒体的荧光染料对于研究线粒体的生理功能至关重要.但市场上的线粒体染料斯托克斯位移很小,容易受到自吸收效应的影响.基于线粒体膜电位的特性设计了一种线粒体靶向染料,命名为Mito-ql.染料Mito-ql具有优异的光学特性,例如大斯托克斯位移(约165nm)良好的化学和光稳定性以及低细胞毒性.此外,细胞成像实验表明,染料Mito-ql具有优异的线粒体定位能力,不受线粒体膜电位变化的影响.

• 单位
  化学化工学院; 广西大学; 有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室