基于梳齿间距MEMS工艺误差的微传感器电容与静电力分布模型

作者：戴强; 于奇; 束平; 杨洪东; 张国俊

来源：仪表技术与传感器, 2010, (03): 12-14+18.

• 微传感器
• 电容分布
• 静电力分布
• 概率模型
• MEMS工艺误差 micro sensors and actuators
• capacitance distribution
• electrostatic force distribution
• probability model
• MEMS process error

在理论分析与模拟仿真基础上,提出了由于梳齿微细加工误差所引起的电容和静电力概率分布模型。该模型表明电容和静电力均为类高斯分布,它们在一定区段出现的可能性可根据其准期望和准方差确定,且该准期望与无加工误差情况相比均有小于5%的微小偏移;同时,该准方差依赖于梳齿数目和梳齿加工误差程度,当梳齿数目由10增大到60时,电容与静电力分布准方差分别增大约2倍和1倍,而当梳齿加工误差程度从5%增大到20%时,则分别增大约3.5倍和2.5倍。该模型可望为一大类梳齿结构微传感器或执行器性能偏差的理论研究和工艺实现提供参考。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室