基于Si-rich SiN_x/N-rich SiN_y多层膜结构的量子点构筑及发光特性

作者：黄锐; 王旦清; 宋捷; 丁宏林; 王祥; 郭艳青; 陈坤基; 徐骏; 李伟; 马忠元

来源：Acta Physica Sinica, 2010, (08): 5823-5827.

• 氮化硅
• 多层膜
• 限制结晶
• 纳米晶硅 silicon nitride
• multilayer
• constrained crystallization
• Si nanocrystals

利用等离子体增强化学气相沉积法制备Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜,分别使用热退火和激光辐照技术对多层膜进行退火,以构筑三维限制、尺寸可控、有序的硅纳米晶.实验结果表明,经退火后,纳米硅晶粒在Si-rich SiNx子层内形成,其尺寸可由Si-rich SiNx子层厚度调控.实验还发现,激光辐照技术相比于热退火能更有效地改善多层膜的微结构,提高多层膜的晶化率,以激光技术诱导晶化的Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜作为有源层构建电致发光器件,在室温下观察到了增强的电致可见发光,并且发光效率较退火前提高了40%以上.

• 单位
  固体微结构物理国家重点实验室; 南京大学; 韩山师范学院