溅射法制备纳米薄膜材料及进展

作者：贾嘉

来源：半导体技术, 2004, (07): 70-73.

DOI：10.13290/j.cnki.bdtjs.2004.07.019

• 溅射法
• 纳米薄膜
• 材料制备 sputtering technology
• nano materials
• preparation of thin film materials

溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能纳米材料的重要手段。本文介绍了离子束溅射和磁控溅射技术的基本原理、方法及其在制备纳米材料中的应用和优点,以国内外这方面的最新进展。文章最后对我国纳米材料今后的应用及发展前景进行了展望。

• 单位
  中国科学院上海技术物理研究所; 传感技术国家重点实验室