摘要

通过水热法成功制备了In掺杂的MoO3纳米带,并探究了In掺杂浓度对其物相、形貌和室温氢敏性能的影响。结果表明,In掺杂后产物均为正交相MoO3纳米带,平均长度约为5μm,直径约为200 nm。随着In掺杂浓度从2%(原子分数)提高到6%,材料的室温氢敏性能逐渐增强,但当掺杂浓度进一步提高到10%时,室温氢敏性能反而恶化。其中,6%掺杂的MoO3纳米带表现出最佳的室温氢敏性能,对3 000×10-6 H2的响应度约为1.84,响应时间约为42 s。此外,所得In掺杂MoO3纳米带具有良好的重复性、选择性和稳定性。