复合氮化铝压电薄膜研制及其应用

作者：陈运祥; 赵雪梅; 郑泽渔; 陶毅; 伍平; 田亚睿; 张永川; 许东辉

来源：压电与声光, 2020, 42(05): 628-630.

• 复合氮化铝压电薄膜
• Ku及K波段声体波微波延迟线(BAWDL)
• 低插损

采用中频(MF,40 kHz)双S枪磁控反应溅射制备出了氮化铝(AlN)压电薄膜;采用直流磁控溅射法制作了Mo电极薄膜;采用脉冲DC磁控溅射Au、Cr、Al靶分别制作Au/Cr底电极薄膜及Al/Cr顶电极薄膜。通过对AlN压电薄膜、Mo及Au电极薄膜进行了X线衍射(XRD)分析,结果表明,复合AlN压电薄膜(002)面、Mo薄膜(110)面及Au薄膜(111)面择优取向优良,说明选用Al/Cr/AlN/Au/Cr/YAG复合结构压电薄膜能研制出Ku波段及K波段声体波微波延迟线(BAWDL),其Ku及K波段BAWDL器件插入损耗分别低至43.7 dB、54.6 dB。

• 单位
  中国电子科技集团公司第二十六研究所