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摘要
大尺寸薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD）显示器为节省黑色矩阵（Black Matrix, BM）制程降低面板成本，使用黑色膜柱（Black Photo Spacer, BPS）技术替代BM和PS(Photo Spacer)制程，同时为兼顾对组精度提升的需求，采用BOA(BPS on Array)技术，将BPS转移至阵列基板侧。原BM制程是第一道制作，而新的BPS制程则位于阵列最后一道制程。BPS曝光成型需使用阵列前制程的金属标（Metal Mark）进行精准对位，实现精细化图案。BPS的透过率低，致使CCD摄像机透过BPS抓取前制程的金属标进行对位非常困难。针对该技术难题，对曝光设备抓标的原理进行了分析，通过调整材料颜料组成，获取了不同透过率BPS材料。将不同透过率的BPS材料进行曝光成型，研究曝光对位过程对材料透过率的最低要求，同时遮光度尽可能大。实验结果表明，NSK曝光机对位灯源波长位于780～1 000 nm红外区域，在该波段BPS材料透过率低于23%时会导致对位失败。通过使用有机-无机混合颜料组成取代有机混合颜料，在红外波段可获得接近90%的透过率，满足对位需求。同时固化成型后可获得1.2/μm光学密度，满足BPS产品遮光特性需求。以此制作的BPS面板光学指标满足产品规格。
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