摘要
采用直流磁控溅射制备了光电性能可调的氮化钛(TiN)薄膜,TiN薄膜的透过率随沉积压强和氮气浓度升高而升高;电导率随溅射功率升高而升高、随沉积压强和氮气浓度升高而降低。TiN的可见光平均透过率为0%~60%,氮气浓度和沉积压强较低时制备的TiN薄膜具有优异的电导率(4000 S/cm)。将高电导率的TiN薄膜应用于隧穿氧化钝化接触太阳电池(TOPCon),改善了多晶硅层(Poly-Si)与银电极界面接触,提高了填充因子,为实现高效TOPCon太阳电池提供了有效途径。
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单位材料学院; 西南石油大学