5083铝合金复合电镀镍-碳化硅-二硫化钼的显微组织和耐磨性

作者：张梦瑶; 田晓东^*; 高顺

来源：电镀与涂饰, 2019, 38(16): 843-846.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2019.16.001

• 铝合金
• 复合电镀
• 镍
• 碳化硅
• 二硫化钼
• 显微组织
• 耐磨性

采用硫酸盐体系镀镍液在5083铝合金基体上电镀得到纯Ni镀层、Ni-SiC复合镀层和Ni-SiC-MoS2复合镀层。镀液组成和工艺条件为:NiSO4·6H2O 300g/L,NiCl2 6H2O 45 g/L,H3BO3 35 g/L,SiC0g/L或80g/L,MoS20 g/L或8g/L,十二烷基硫酸钠0.1 g/L,pH5,温度50℃,阴极电流密度5 A/dm2,机械搅拌速率200r/min,时间35min。对比了3种镀层的显微组织、成分和耐磨性。结果表明,Ni-SiC-MoS2复合镀层的平均晶粒尺寸最小,显微硬度最高(达到430.10HV),耐磨性最优。

• 单位
  长安大学