铜及钼含有膜的蚀刻液组合物

来源：中国钼业, 2021, 45(03): 51.

<正>专利申请号:CN201810996546公开号:CN109136925A申请日:2014.09.22公开日:2019.01.04申请人:易安爱富科技有限公司本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时,控制钼或钼合金膜的侧蚀,实现稳定的蚀刻工程,并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中,相对于总重量,