摘要
TU1 无氧铜性能优异,成本低廉,是广泛应用的导热材料,在使用过程中发生氧化会严重影响其性能,因而其氧化行为被广泛研究。本文针对 TU1 无氧铜开展了室温至 600℃空气氧化试验,用场发射扫描电镜(SEM)观测了 TU1 无氧铜氧化过程中的微观形貌变化,并利用 X 射线衍射仪(XRD)和俄歇电子能谱仪(AES)分析了氧化产物及其深度分布。结果表明,随着氧化温度的升高,在 TU1 无氧铜表面先后生成 Cu2O 和 Cu O ;其重量随着温度升高表现为先升高后降低的趋势;温度为 200℃时,氧化层深度约为 200nm。
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单位核工业理化工程研究院